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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • XMD氧化鈷濕法分散研磨機

    氧化鈷濕法分散研磨機需要加入液體介質(zhì)中分散應(yīng)用，氧化鈷+液體介質(zhì)+分散劑采用XMD2000系列研磨分散機進行研磨分散，解決團聚問題，更均勻的分散，并進一步細化粒徑，一般分散后粒徑為D90小于1微米，分散效果好，效率高。

    更新時間

    2023-11-12

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

    瀏覽量

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